Изложены современные представления о физике взаимодействия ионных пучков с твердыми телами, рассмотрены вопросы образования и отжига дефектов кристаллической решетки, формирование заданных профилей распределения легирующих атомов. Приведены данные о современном оборудовании, используемом для ионной и фотонной обработки материалов, а также для изменения свойств ионно-имплантированных слоев. Рассмотрены приложения ионной и фотонной обработки в современных технологиях микроэлектроники и твердотельной электроники. Для студентов учреждений высшего образования, изучающих физику полупроводниковых материалов, физику твердого тела, физическую электронику, микроэлектронику, методы математической физики.